دانلود مقاله ترجمه شده سنتز گرافن چند لایه ای به وسیله رسوبگیری بخار شیمیایی بهبود یافته با پلاسما

اگر گرافن امید دستگاه های نانوالکترونیکی را همیشه زنده نگه دارد، یک راه آسان و ارزان برای تولید عمده، یک شرط لازم است. روش بسط قابلیت های رسوبگیری بخار شیمیایی بهبود یافته با پلاسما به سنتز گرافن چند لایه ای ساده ارئه می شود. ورقه های با مساحت های میکرومتر شامل چهار تا شش لایه اتمی ورقه های توده گرافنی به وسیله بازترکیب کنترل شده ی رادیکال های کربنی در یک پلاسمای میکروویو سنتز شده اند. یک روش ساده و بسیار تکرارپذیری لازم است چون ورقه های حاصل را می توان بدون نیاز به یک کاتالیست روی سطح هر زیرلایه ای که تحمل دما تا 700 ◦C را داشته باشد، سنتز نمود. یک تحلیل ساختار کامل از ورقه های با میکروسکوپ الکترونی، پراش پرتو ایسک ، اسپکتروسکوپی رامان و میکروسکوپ تونل زنی روبشی انجام می شود. ورقه های گرافن حاصل بطور عمودی با سطح زیرلایه تراز می شوند و بر طبق یک فرآیند سه مرحله ای رشد می یابند.

یک مانع در برابر دستگاه های گرافنی، نبود روشی برای تولید انبوه است. رویه سابی مکانیکی و رشد اپی تکسیال عموما ورقه های گرتفنی تک، دو لایه یا سه لایه تولید می کند ولی آنها پیچیده بوده و احتمالا کاندیدی برای تولید انبوه به شمار نمی روند. اخیرا نشان داده شده است که اکسید گرافیت بعد از این که یک قطره از این سوسپانسیون به گرافن بطور شیمیایی کاهش یابد، به آسانی در آب سابیده می شود...